半導體純水設備常見的工藝流程：
離子交換工藝：原水+石英砂過濾器+活性碳過濾器+精密過濾器+原水箱+陽床+陰床+混床(復床)+純水箱+純水泵+后置精密過濾器+用水點。
反滲透工藝：原水+石英砂過濾器+活性碳過濾器+精密過濾器+原水箱+反滲透設備+混床(復床)+純水箱+純水泵+后置精密過濾器+用水點。
反滲透+edi工藝：原水+石英砂過濾器+活性碳過濾器+精密過濾器+原水箱+反滲透設備+電去離子(EDI)+純水箱+純水泵+后置精密過濾器+用水點。
半導體純水設也是采用預處理、反滲透技術可EDI模塊相結合將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不溶解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。超純水系統設備的脫鹽核心部件是反滲透膜。
超純水edi設備是一種新型的水處理技術，它可以將普通水轉化為超純水，具有出水質量高、能耗低、運行成本低等優點。EDI超純水設備的原理是利用電場來凈化水，通過電場和離子交換技術，將水中的離子和有機物質逐步清除，達到超純水的要求。
EDI超純水設備有多種規格，可以滿足不同用戶的需求，
它的出水質量高，可以達到10-18MΩ.cm的電阻率，水中的有機物質含量，微量元素含量，EDI超純水設備的運行成本也很低，只需要少量的能源和化學藥劑，就可以達到超純水的要求。
半導體純水設備采用預處理、反滲透技術、可將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。超純水系統設備的脫鹽核心部件是反滲透膜。
半導體純水設備也被已廣泛應用于：電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、鋼鐵、玻璃清洗用水、半導體工業、精細化工、光學、醫藥用水、透析醫療用水。等領域。
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